| 1. Identificação | ||||
| Tipo de Referência | Artigo em Revista Científica (Journal Article) | |||
| Site | mtc-m21c.sid.inpe.br | |||
| Código do Detentor | isadg {BR SPINPE} ibi 8JMKD3MGPCW/3DT298S | |||
| Identificador | 8JMKD3MGP3W34R/3TJ7MF5 | |||
| Repositório | sid.inpe.br/mtc-m21c/2019/07.01.15.14 (acesso restrito) | |||
| Última Atualização | 2019:07.01.15.14.41 (UTC) simone | |||
| Repositório de Metadados | sid.inpe.br/mtc-m21c/2019/07.01.15.14.41 | |||
| Última Atualização dos Metadados | 2020:01.06.11.42.15 (UTC) administrator | |||
| DOI | 10.1116/1.5092435 | |||
| ISSN | 2166-2746 | |||
| Chave de Citação | UedaSilSouPicReu:2019:HiTePl | |||
| Título | High temperature plasma immersion ion implantation using hollow cathode discharges in small diameter metal tubes  | |||
| Ano | 2019 | |||
| Mês | July | |||
| Data de Acesso | 01 maio 2024 | |||
| Tipo de Trabalho | journal article | |||
| Tipo Secundário | PRE PI | |||
| Número de Arquivos | 1 | |||
| Tamanho | 2806 KiB | |||
| 2. Contextualização | ||||
| Autor | 1 Ueda, Mário 2 Silva, Carla da 3 Souza, Gelson B. de 4 Pichon, Luc 5 Reuther, Helfried | |||
| Identificador de Curriculo | 1 8JMKD3MGP5W/3C9JHSB | |||
| Grupo | 1 LABAP-COCTE-INPE-MCTIC-GOV-BR 2 CMS-ETES-SESPG-INPE-MCTIC-GOV-BR | |||
| Afiliação | 1 Instituto Nacional de Pesquisas Espaciais (INPE) 2 Instituto Nacional de Pesquisas Espaciais (INPE) 3 Universidade Estadual de Ponta Grossa (UEPG) 4 Université de Poitiers 5 HZDR, Rossendorf | |||
| Endereço de e-Mail do Autor | 1 mario.ueda@inpe.br 2 carla.silva@inpe.br | |||
| Revista | Journal of Vacuum Science and Technology B: Nanotechnology and Microelectronics | |||
| Volume | 37 | |||
| Número | 4 | |||
| Páginas | e042902 | |||
| Histórico (UTC) | 2019-07-01 15:15:25 :: simone -> administrator :: 2019 2019-07-02 23:39:18 :: administrator -> simone :: 2019 2019-07-03 18:46:38 :: simone -> administrator :: 2019 2020-01-06 11:42:15 :: administrator -> simone :: 2019 | |||
| 3. Conteúdo e estrutura | ||||
| É a matriz ou uma cópia? | é a matriz | |||
| Estágio do Conteúdo | concluido | |||
| Transferível | 1 | |||
| Tipo do Conteúdo | External Contribution | |||
| Tipo de Versão | publisher | |||
| Resumo | High temperature nitrogen plasma immersion ion implantation (HT-NPIII) method was used to treat the internal walls of small diameter metal tubes made of SS304 and of Ti6-Al4-V (TAV). Using a lid in one side of the tubes was essential to reach high temperatures of 700900 °C, necessary for high thermal diffusion of nitrogen in Ti alloy samples placed inside the metal tubes for monitoring the HT-NPIII process. The used metal tubes also reached such high temperatures. New phases of TiN and Ti2N were successfully attained in the TAV samples with the treated layer thickness of more than 1.3 μm for all the tested cases. For tubes made of SS304, HT-NPIII treatments resulted in redeposition of FeN thick layers with high hardness on the surfaces of the internal walls of the tubes and on the monitoring samples. Obtaining such HT-NPIII conditions in these small metallic tubes was possible by achieving high plasma density through hollow cathode discharges inside those tubes. These results were compared to the ones obtained on the nitrogen implantation treatments of TAV samples in moderate to high temperatures carried out previously in the laboratory which indicated the superior performance of the presently reported method of surface modification. | |||
| Área | FISPLASMA | |||
| Arranjo 1 | urlib.net > BDMCI > Fonds > Produção anterior à 2021 > LABAP > High temperature plasma... | |||
| Arranjo 2 | urlib.net > BDMCI > Fonds > Produção pgr ATUAIS > CMS > High temperature plasma... | |||
| Conteúdo da Pasta doc | acessar | |||
| Conteúdo da Pasta source | não têm arquivos | |||
| Conteúdo da Pasta agreement |
| |||
| 4. Condições de acesso e uso | ||||
| Idioma | en | |||
| Arquivo Alvo | 1.5092435.pdf | |||
| Grupo de Usuários | simone | |||
| Grupo de Leitores | administrator simone | |||
| Visibilidade | shown | |||
| Permissão de Leitura | deny from all and allow from 150.163 | |||
| Permissão de Atualização | não transferida | |||
| 5. Fontes relacionadas | ||||
| Unidades Imediatamente Superiores | 8JMKD3MGPCW/3ET2RFS 8JMKD3MGPCW/3F358GL | |||
| Lista de Itens Citando | sid.inpe.br/bibdigital/2013/09.25.21.49 1 sid.inpe.br/bibdigital/2013/10.14.21.39 1 | |||
| Divulgação | PORTALCAPES; SCOPUS. | |||
| Acervo Hospedeiro | urlib.net/www/2017/11.22.19.04 | |||
| 6. Notas | ||||
| Campos Vazios | alternatejournal archivingpolicy archivist callnumber copyholder copyright creatorhistory descriptionlevel e-mailaddress format isbn keywords label lineage mark mirrorrepository nextedition notes orcid parameterlist parentrepositories previousedition previouslowerunit progress project rightsholder schedulinginformation secondarydate secondarykey secondarymark session shorttitle sponsor subject tertiarymark tertiarytype url | |||
| 7. Controle da descrição | ||||
| e-Mail (login) | simone | |||
| atualizar | ||||